顶目情况 武汉某半导体材料厂产出环节中另外诞生高硅污废污水 （SiO₂ 500-800mg/L）和含氟污废污水 （F⁻ 200-300mg/L）。每种污废污水 搭配而后容易导致氟硅酸电解质溶液，传统与现代化学奠定法仍未比较稳定考核规范。业务符合要求同步软件取除硅和氟（排放规范规范：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废水处理成分表及从何而来 大部分有效成分 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 来源地 ：晶圆刻蚀废气处理工艺、CMP抛光废气处理工艺、设备擦拭水 除理加工过程程序流程 协作水解价段 ： 多级表现池 ： 一是级添加Ca(OH)₂提取CaF₂和CaSiO₃凝固； 第二点级加药PAC（聚合反应氯化铝）加强二沉池。 固液分割一阶段 ： 超滤膜模式 ：运用0.02μm口径膜零部件公款私存橡胶胶体部分硅和微细沉淀自己物。 深度的脱氟阶段中 ： 特异性氧化反应铝气体吸附塔 ：的残留物氟铝离子活性炭吸附取除。 不可能成果 出液SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远相对比较国家条件。 超滤膜平台通量不稳在15LMH，有机化学拆洗过渡期缩短至60天。 废水经压滤后含水分率＜65%，可按一般来说固废处理预防。