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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆手工制作加工商是在华东地域地域,主要制作加工8寸大半导体行业晶圆,日访问量废水处理工艺排卸出量约800吨。会因为制作加工工作中运行很多氢氧化钠实施晶圆蚀刻,出现废水处理工艺中氟化物酸度达到了200-300mg/L,远超地方排卸出准则(10mg/L以內)。 废液因素及源于 废水处理大部分来源几个基本原则: 晶圆蚀刻程序 :含高溶液浓度氟化物(HF)、氰化钠及大量天价属 化学式物理打蜡 (CMP)工业废水 :含nm级硅科粒、无机络合剂 机械设备清理废渣 :含异丙醇、氟化物等有机化合物物 加工加工制作工艺 流量 采用了"生物滤渣+沥青混凝土滤渣+深度.进行过滤"3级进行处理系统的: 第一整理 :污泥脱水氯化钙和氢被氧化钙,造成氟化钙沉淀物中,氟化物消除率达85% 中级除理 :调用PAC(配位碱式氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),去掉电解质溶液态弄脏物 三级考试除理 :实现多材质过滤装置器和活性酶炭过滤,喷水氟化物有机废气浓度稳定可靠在8mg/L下类 要点机器设备属于:pH半自动调准平台、斜管乳浊液池、板框压滤设备(污水脱干)。 结果英文效率 的项目开机运行四年监测方案数据现示现示: 氟化物评均质量浓度:7.2mg/L(低过国家要求) COD删去率:92% 污泥干化含水分率:≤65% 年再使用氟化钙副食品约150吨,实行影视秸秆综合使用使用

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