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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

顶目背景图片 该半导体材料制造技术客户处于华东地域地域,主要加工智能家居控制线路存储芯片,日排出出含氟工业废水工作约800吨。基于内地坏保准则不断提高,同一工作设备是没办法充分满足氟化物排出出溶液浓度低过5mg/L的新标准,客户投资费用1八百万元兴建职业含氟工业废水工作工作装置。 废水处理部分及种类 废液核心源自电子器件造成全过程中的刻蚀制作工艺和清理制作工艺,核心危害物属于: 氟化合物渗透压:300-800mg/L pH值:2- 有效少许硅酸盐、聚磷酸盐 进样器高价属如铜、镍等 办理工作流程工作流程 通过"预补救+生物乳浊液+深层次补救"团体施工工艺: 调池:稳定水质标准蓄水量,设制pH免费监测器 七级不起作用池:添加氢防氧化钙,操作pH至7-8,确立氟化钙石雕文化沉淀 考试内容一级放置池:放置脱离氟化钙污水 二级考试不起作用池:添加氯化钙和聚合反应氯化铝,进一大步我们要除残留氟阳离子 特殊析出池:再次析出拆分 砂滤系统化:避开自动隐藏物 化学活化炭过滤:洗去巧妙物和进样器高价属 淤泥处理系统化:板框压滤脱水等,淤泥含水量率低于60%下述 既定结果 软件系统开机运行安全后,冒水水质检测: 氟阴阳离子酸度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 血本属含锌量均达不到查出限 已经需要满足《电子器件工业生产水废弃物物污染物原则》(GB39731-2020)需要,每一年减轻氟化物污染物约180吨。

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